







SiC半桥模块作为新一代功率半导体器件,在电力电子产业中发挥着重要作用。它凭借高耐压、低损耗、高效率等特性,显著提升了电力转换系统的性能。在新能源汽车、光伏、储能等领域,SiC半桥模块的应用有效降低了能耗,提高了系统效率和可靠性。
某SiC半桥模块在试验后出现失效,栅极电阻异常降低(10Ω/30Ω,正常为无穷大),DS端短路。现对3pcs NG模块2个OK模块进行失效分析,查找其失效原因。
1.外观&无损检测 所有模块外观未发现开裂、变形、烧焦异常。丝印型号等信息有被打磨痕迹,引脚有焊锡残留,有解焊的痕迹。对3pcs NG模块进行透视检查,结果显示:3pcs NG模块无损检测未发现键合丝断裂、交叉现象,内部未发现有明显烧毁现象。 2.IV曲线 NG模块由上下两个MOS(T1和T2)组成,其中下MOS管(T2)明显电学特征异常。 NG1/NG2:下MOS管G-S极短路,D-S极漏电; NG 3:下MOS管G-D-S极两两短路。 3.C-SAM检测 发现NG3下MOS区域存在严重分层,结合电学特征,NG3应该出现了严重烧毁。其他失效模块及正常模块无分层异常,仅OK1模块C-SAM检查发现基板边缘位置有分层。
4.开封 NG3发现下MOS管芯片组中最左侧的芯片严重烧毁。从烧毁形貌分析为过流热致烧毁。NG1和NG2未发现下MOS芯片组明显烧毁。 5.缺陷定位&显微分析 对开封后未发现明显烧毁的NG1和NG2进行缺陷定位,发现: NG1缺陷定位显示左起第5个MOS芯片上有异常热点。 NG2缺陷定位显示左起第3个MOS芯片上有异常热点,栅极串联电路上有干扰热点。 光学/SEM观察NG1和NG2的MOS芯片异常热点位置,未发现明显异常。 6.去层观察(以NG1为例) NG1和NG2的MOS芯片异常热点位置表面未发现有明显异常,故需要观察衬底。NG1与NG2的失效模式相同,均因栅极过电压导致击穿,故以NG1为例进行详细分析。 图片显示NG1在去层后衬底上对应异常热点的位置有一个电击穿孔。 由上述可知NG1的下MOS的GS之间短路是由于栅介质层被电击穿所致。因MOS管的栅极对过电压敏感,推断NG1和NG2是由于下MOS栅极有发生了过电压。该过电压可能是ESD,也有可能是异常的浪涌电压。 7.总结 NG3下MOS管的一个芯片因过流热致烧毁而G、D、S两两短路失效。 NG1和NG2下MOS因栅极过电压击穿而GS短路失效。 8.建议 1)对于过电流热致烧毁,需要改善散热; 2)对于栅极过电压击穿,建议做好ESD防护和栅极浪涌电压抑制。





